ASML wil samen met de Foundation for Fundamental Research on Matter (FOM), de Universiteit van Amsterdam, de Vrije Universiteit en de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek (NWO) het Instituut voor Nanolithografie (INL) oprichten. 

Dat maakte de fabrikant van chipmachines maandag bekend. Het INL zal zich in eerste instantie richten op de verdere ontwikkeling van de Extreme Ultraviolet (EUV) lithografie, waarmee meer informatie op chips kan worden gezet dan met andere technieken.

ASML werkt al enige jaren aan EUV en sloot vorig jaar overeenkomsten met een aantal van zijn grootste klanten om de ontwikkeling te versnellen. Zo stak de Amerikaanse chipgigant Intel 829 miljoen euro in het programma.

Het is de bedoeling dat het INL in het derde kwartaal van dit jaar het levenslicht ziet. In eerste instantie zal FOM-onderdeel AMOLF het instituut besturen. In 2015 moet het INL een onafhankelijke instantie worden onder bestuur van het FOM en de universiteiten. Het INL dat gevestigd wordt in het Amsterdamse Science Park, zal bestaan uit ongeveer 100 wetenschappers.

Innovatie

Het INL gaat onderzoek verrichten dat essentieel is voor innovatie in de wereldwijde halfgeleiderindustrie. ASML neemt meer dan een derde van het budget van het instituut voor zijn rekening en investeert circa 30 miljoen euro gedurende 10 jaar.

FOM en NWO trekken er gedurende die periode 25 miljoen euro voor uit en de universiteiten leveren een gezamenlijke bijdrage van 12,5 miljoen euro. De gemeente Amsterdam heeft 5 miljoen euro toegezegd voor de opstartkosten.

De oprichters verwachten dat het INL zal profiteren van het overheidsbeleid voor Topconsortia voor Kennis en Innovatie (TKI) en dat er nog eens 25 miljoen euro kan worden aangetrokken uit onder meer Europese programma's. Al met al wordt gerekend op 100 miljoen euro voor 10 jaar.