AMSTERDAM - Een delegatie van vijftien vooraanstaande Nederlandse architecten- en ontwerpbureaus vertrekt half oktober naar China. Ze presenteren er hun werk op de Shanghai International Creative Industry Week (SICIW), van 15 tot 21 oktober.

Deelnemers zijn onder meer architectenbureaus UNStudio, VenhoevenCS Architects, SeARCH en Jo Coenen & Co Architecten. De trip is deel van het programma Dutch Design Fashion Architecture (DutchDFA), dat dit jaar is begonnen.

De deelnemers gaan tijdens de week netwerken en kunnen lezingen, workshops en feesten bezoeken.

Dialoog

Op de Dutch Day (17 oktober) gaan op een speciale conferentie Nederlandse en Chinese ontwerpers met elkaar in dialoog, gevolgd door een modeshow van jonge Nederlandse ontwerpers.